荷蘭半導體設備出口管制涵蓋光刻、沉積、外延等設備
(資料圖)
根據荷蘭政府官網，以下設備屬于出口管制范圍：
- EUV光罩保護膜及其生產設備；
- 光刻設備：
a、光源波長＜193nm；或者
b、光源波長≥193nm，且滿足最小可分辨特征尺寸（MRF）≤45nm，以及DCO≤；
- 特定ALD設備；
- 特定的硅、碳化硅、鍺硅外延設備等；
管制新規將在今年9/1日生效，上述設備出口需要經過荷蘭外貿和發展合作部部長許可。
ASML最先進浸沒式光刻機受到影響，符合此前預期
6/30日，ASML官網發表聲明，荷蘭政府當日發布針對半導體設備出口的管制新規（EUV銷售已經被限制）。ASML表示，最先進的浸沒式DUV系統（NXT：2000i及之后型號）需要申請荷蘭政府的出口許可。高端DUV光刻機出口限制情況與今年3月ASML預期的一致。根據ASML官網，1980Di型號光刻機的波長為193nm，分辨率≤38nm，DCO為（不屬于限制范圍）。通過多重曝光，1980Di可以做到更小制程，從而滿足國內大部分晶圓產線擴產的需求。
建議關注：拓荊科技、華海清科、中微公司、北方華創、芯源微、精測電子等。
風險提示：需求不及預期、技術迭代和貿易摩擦風險。
關鍵詞：
質檢
推薦
